真空等离子处理系统
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VLOL-12-A在线式真空等离子清洗系统是一款精密干式清洗设备，专为材料表面污染物去除及表面活化而设计。该工艺无化学残留且无损伤，可显著提升涂层附着力和工艺可靠性。采用连续式操作设计（如双工位交替），在保持高精度的同时支持小批量生产，特别适用于LED支架、精密电子元件等需要严格工艺控制的领域。其非接触式清洗和无残留的特性，使该系统在半导体、电子等敏感行业具有显著竞争优势。
在线式真空等离子清洗机通过在真空环境中利用高频或射频电场产生等离子体。这些等离子体具有高活性和能量，能与表面污染物（如油脂、氧化物和有机杂质）发生化学和物理作用。该工艺高效且非接触，避免了传统清洗方法可能造成的机械损伤。
1、实时参数监控：通过数字和图标实时显示多项工艺参数
2、低泄漏高均匀性：无缝焊接技术确保真空泄漏最小化，从而提升处理均匀性
3、一体化电极板：集成式电极板设计可在工艺腔内产生均匀致密的等离子体
4、物理+化学双重作用：物理轰击与化学反应相结合，可去除纳米级污染物并增强附着力
手机行业：对触控面板（TP）、边框及后盖等表面进行清洗活化，提升粘接和印刷附着力
摄像头模组：DB、WB及HM工艺前处理，以及最终封装前的表面处理，增强结合强度与良率
PCB/FPC行业：金属键合、塑封、底部填充、光刻胶去除、基板表面活化及涂层工艺前处理
半导体行业：芯片键合前处理、引线框架表面处理及BGA封装，去除表面有机污染物
LED行业：银浆涂覆、晶片固化、焊线及LED封装前的处理，去除污染物并提高结合强度
金属行业：等离子处理可增加金属表面附着力，改善表面均匀性，防止涂层不均或脱落
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